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  1. 研究論文

Schottky diodes of Ni/Au on n-GaN grown on sapphire and SiC substrates

https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/5008
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/5008
858cdf22-3740-4191-a11a-8cc585addd9f
名前 / ファイル ライセンス アクション
APL 本文_fulltext (278.3 kB)
Copyright (2001) American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.The following article appeared in Applied physics letters, 79(16), pp.2567- 2569; 2001 and may be found at http://link.aip.org/link/?apl/79/2567
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2012-11-06
タイトル
タイトル Schottky diodes of Ni/Au on n-GaN grown on sapphire and SiC substrates
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 Zhang, B. J.

× Zhang, B. J.

en Zhang, B. J.

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江川, 孝志

× 江川, 孝志

en Egawa, Takashi

ja 江川, 孝志
ISNI

ja-Kana エガワ, タカシ


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Zhao, G. Y.

× Zhao, G. Y.

en Zhao, G. Y.

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Ishikawa, H.

× Ishikawa, H.

en Ishikawa, H.

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Umeno, Masayoshi

× Umeno, Masayoshi

en Umeno, Masayoshi

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Jimbo, Takashi

× Jimbo, Takashi

en Jimbo, Takashi

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著者別名
姓名 Egawa, Takashi
言語 en
姓名 江川, 孝志
言語 ja
姓名 エガワ, タカシ
言語 ja-Kana
著者別名
姓名 梅野, 正義
著者別名
姓名 神保, 孝志
書誌情報 en : APPLIED PHYSICS LETTERS

巻 79, 号 16, p. 2567-2569, 発行日 2001-10-15
出版者
出版者 American Institute of Physics
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0003-6951
item_10001_source_id_32
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00543432
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
item_10001_relation_34
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://dx.doi.org/10.1063/1.1410355
関連名称 10.1063/1.1410355
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 GaN films were grown on sapphire and SiC substrates. The crystal qualities of GaN films were investigated by photoluminescence, atomic force microscopy, and electron-beam-induced current measurements, etc. It was found that the crystal quality of GaN on SiC is better than the one on sapphire. Ni/Au Schottky contacts were formed on the both samples. The electronic characteristics were obtained by current-voltage and capacitance-voltage measurements. Schottky diodes on sapphire substrate show breakdown voltage of -80 V. While for SiC substrate, the strong breakdown was not observed even at -100 V. The reverse leakage current of diodes based on SiC is over three orders of magnitude lower than that of sapphire substrate when the reverse voltage is above 50 V, which is due to the presence of low dislocation density and high thermal conductivity.
言語 en
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Ver.1 2023-05-15 13:43:01.705038
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