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  1. 研究論文

Observation of lattice relaxation at the GaAsP/GaAs interface beyond the critical thickness by transmission electron microscopy

https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/4284
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/4284
92ae8d22-42e3-4b79-a916-e63e065912f9
名前 / ファイル ライセンス アクション
JAP 本文_fulltext (529.6 kB)
Copyright (1994) American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.The following article appeared in Journal of Applied Physics, 75(9), pp.4510- 4514 ; 1994 and may be found at http://link.aip.org/link/?jap/75/4510
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2012-11-06
タイトル
タイトル Observation of lattice relaxation at the GaAsP/GaAs interface beyond the critical thickness by transmission electron microscopy
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 曾我, 哲夫

× 曾我, 哲夫

en Soga, Tetsuo

ja 曾我, 哲夫
ISNI

ja-Kana ソガ, テツオ


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Inoue, Jiro

× Inoue, Jiro

en Inoue, Jiro

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Jimbo, Takashi

× Jimbo, Takashi

en Jimbo, Takashi

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Umeno, Masayoshi

× Umeno, Masayoshi

en Umeno, Masayoshi

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著者別名
姓名 Soga, Tetsuo
言語 en
姓名 曾我, 哲夫
言語 ja
姓名 ソガ, テツオ
言語 ja-Kana
著者別名
姓名 神保, 孝志
著者別名
姓名 梅野, 正義
bibliographic_information en : JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

巻 75, 号 9, p. 4510-4514, 発行日 1994-05-01
出版者
出版者 American Institute of Physics
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0021-8979
item_10001_source_id_32
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00693547
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
item_10001_relation_34
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://dx.doi.org/10.1063/1.355942
関連名称 10.1063/1.355942
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 The lattice relaxation at the GaAs1-xPx/GaAs interface is observed using thickness fringe images in transmission electron microscopy. The bending of the equal thickness fringes observed near the interface is explained, assuming that crystal planes are inclined near the interface and that the inclination has a maximum at the interface. The magnitudes of inclination and the thickness of the strained region are estimated for various phosphorous composition and the GaAsP thickness. The lattice relaxation mechanisms for GaAsP on GaAs is described. It is indicated from the thickness fringe observation that the lattice relaxation occurs gradually beyond the critical thickness.
言語 en
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Ver.1 2023-05-15 13:53:25.766959
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