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Annealing of p-type wide-gap CuxZnyS thin films deposited by the photochemical deposition method
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/6243
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/624397a559be-1e4f-424a-aaad-2500485ba645
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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本文_fulltext (938.0 kB)
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(C)2016 The Japan Society of Applied Physics
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2018-05-14 | |||||||||
| タイトル | ||||||||||
| タイトル | Annealing of p-type wide-gap CuxZnyS thin films deposited by the photochemical deposition method | |||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| 言語 | ||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||||||
| 著者 |
Tong, Bayingaerdi
× Tong, Bayingaerdi
× Ichimura, Masaya
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| 著者別名 | ||||||||||
| 姓名 | 市村, 正也 | |||||||||
| 書誌情報 |
en : Japanese Journal of Applied Physics 巻 55, 号 9, p. 098004, 発行日 2016-08-22 |
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| 出版者 | ||||||||||
| 出版者 | Japan Society of Applied Physics | |||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| ISSN | ||||||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||||||
| 収録物識別子 | 0021-4922 | |||||||||
| item_10001_source_id_32 | ||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||
| 収録物識別子 | AA12295836 | |||||||||
| 出版タイプ | ||||||||||
| 出版タイプ | AM | |||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||||||
| item_10001_relation_34 | ||||||||||
| 関連タイプ | isVersionOf | |||||||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||||||
| 関連識別子 | https://doi.org/10.7567/JJAP.55.098004 | |||||||||
| 関連名称 | 10.7567/JJAP.55.098004 | |||||||||
