WEKO3
アイテム / Dry Etching Characteristics of MOVPE-Grown CdTe Epilayers in CH4, H2, Ar ECR Plasmas / NiraulaMadan_2017_A1
NiraulaMadan_2017_A1
ファイル | ライセンス |
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NiraulaMadan_2017_A1.pdf (780.4 kB) sha256 b036082d629f1094527162ea60b327730b0ae61869d8e24bf130870e0a35c599 | This is a post-peer-review, pre-copyedit version of an article published in Journal of Electronic Materials. The final authenticated version is available online at: http://doi.org/10.1007/s11664-017-5528-3 |
公開日 | 2019-03-19 | |||||
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ファイル名 | NiraulaMadan_2017_A1.pdf | |||||
本文URL | https://nitech.repo.nii.ac.jp/record/6416/files/NiraulaMadan_2017_A1.pdf | |||||
ラベル | 本文_fulltext | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 780.4 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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