WEKO3
アイテム
Ion Implantation Doping and Gate Insulators of GaN
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/1615
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/1615ffe7f5cf-824d-4135-bda2-aa25df11d2e7
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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本文_fulltext (3.1 MB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper_04(1) | |||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2011-11-28 | |||||||
| タイトル | ||||||||
| タイトル | Ion Implantation Doping and Gate Insulators of GaN | |||||||
| 言語 | en | |||||||
| 言語 | ||||||||
| 言語 | eng | |||||||
| 資源タイプ | ||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||||
| その他（別言語等）のタイトル | ||||||||
| その他のタイトル | GaNへのイオン注入によるドーピング及びゲート絶縁膜に関する研究 | |||||||
| 著者 |
Research, Center for Nano-Device and System Nagoya Institute of Technology
× Research, Center for Nano-Device and System Nagoya Institute of Technology
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| 著者別名 | ||||||||
| 姓名 | 名古屋工業大学, 極微デバイス機能システム研究センター | |||||||
| 著者別名 | ||||||||
| 姓名 | ナゴヤコウギョウダイ, ガクゴクビデバイスキノウシステムケンキュウセンター | |||||||
| 書誌情報 |
極微デバイス機能システム研究センター報告書 = Technical report at Research Center for Nano-Device and System 巻 1, p. 1-140, 発行日 2004-03 |
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| 出版者 | ||||||||
| 出版者 | 名古屋工業大学極微デバイス機能システム研究センター | |||||||
| 書誌レコードID | ||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||
| 収録物識別子 | AA12036882 | |||||||
| 著者版フラグ | ||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||
| フォーマット | ||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||||
