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  1. 研究論文

Improved characteristics of GaAs metal-semiconductor field-effect transistors on Si substrates back-coated with SiO2 by metalorganic chemical vapor deposition

https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/4081
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/4081
30239057-e8cd-45cc-ba20-e9841a65e88e
名前 / ファイル ライセンス アクション
APL 本文_fulltext (371.8 kB)
Copyright (1991) American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.The following article appeared in Applied physics letters, 58(12), pp.1265-1267; 1991 and may be found at http://link.aip.org/link/?apl/58/1265
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2012-11-06
タイトル
タイトル Improved characteristics of GaAs metal-semiconductor field-effect transistors on Si substrates back-coated with SiO2 by metalorganic chemical vapor deposition
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 江川, 孝志

× 江川, 孝志

en Egawa, Takashi

ja 江川, 孝志
ISNI

ja-Kana エガワ, タカシ


Search repository
Nozaki, S.

× Nozaki, S.

en Nozaki, S.

Search repository
曾我, 哲夫

× 曾我, 哲夫

en Soga, Tetsuo

ja 曾我, 哲夫
ISNI

ja-Kana ソガ, テツオ


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Jimbo, Takashi

× Jimbo, Takashi

en Jimbo, Takashi

Search repository
Umeno, Masayoshi

× Umeno, Masayoshi

en Umeno, Masayoshi

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著者別名
姓名 Egawa, Takashi
言語 en
姓名 江川, 孝志
言語 ja
姓名 エガワ, タカシ
言語 ja-Kana
著者別名
姓名 Soga, Tetsuo
言語 en
姓名 曾我, 哲夫
言語 ja
姓名 ソガ, テツオ
言語 ja-Kana
著者別名
姓名 神保, 孝志
著者別名
姓名 梅野, 正義
bibliographic_information en : APPLIED PHYSICS LETTERS

巻 58, 号 12, p. 1265-1267, 発行日 1991-03-25
出版者
出版者 American Institute of Physics
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0003-6951
item_10001_source_id_32
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00543432
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
item_10001_relation_34
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://dx.doi.org/10.1063/1.104331
関連名称 10.1063/1.104331
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 GaAs metal‐semiconductor field‐effect transistors (MESFETs) on Si substrates back‐coated with SiO2 grown at high temperature by metalorganic chemical vapor deposition have shown good pinch‐off and suppressed sidegating. The SiO2 back‐coating suppresses Si incorporation into an undoped GaAs layer during growth, and use of such an undoped layer with a low electron concentration beneath the channel layer improves a pinch‐off characteristic. Higher growth temperature also improves crystallinity of GaAs layers grown on Si and helps to suppress the sidegating effect of GaAs MESFETs. The maximum transconductance of 160 mS/mm and the K value of 46.8 mA/V2mm have been obtained for a MESFET with 2.5 μm gate length.
言語 en
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Ver.1 2023-05-15 13:54:45.165553
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