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Low density of defect states in hydrogenated amorphous carbon thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/4911
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| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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本文_fulltext (53.8 kB)
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Copyright (2001) American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.The following article appeared in Applied physics letters, 78(3), pp.294-296; 2001 and may be found at http://link.aip.org/link/?apl/78/294
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||||||||||||||||||||||
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| 公開日 | 2012-11-06 | |||||||||||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | Low density of defect states in hydrogenated amorphous carbon thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition | |||||||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||||||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||||||||||||||||||||||
| 著者 |
Krishna, K. M.
× Krishna, K. M.
× Ebisu, H.
× Hagimoto, K.
× Hayashi, Y.
× 曾我, 哲夫
× Jimbo, Takashi
× Umeno, Masayoshi
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| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||
| 姓名 | Soga, Tetsuo | |||||||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||||||
| 姓名 | 曾我, 哲夫 | |||||||||||||||||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||||||||||||||||
| 姓名 | ソガ, テツオ | |||||||||||||||||||||||||
| 言語 | ja-Kana | |||||||||||||||||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||
| 姓名 | 神保, 孝志 | |||||||||||||||||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||||||||||||||||
| 姓名 | 梅野, 正義 | |||||||||||||||||||||||||
| bibliographic_information |
en : APPLIED PHYSICS LETTERS 巻 78, 号 3, p. 294-296, 発行日 2001-01-15 |
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| 出版者 | ||||||||||||||||||||||||||
| 出版者 | American Institute of Physics | |||||||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||||||
| ISSN | ||||||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子 | 0003-6951 | |||||||||||||||||||||||||
| item_10001_source_id_32 | ||||||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子 | AA00543432 | |||||||||||||||||||||||||
| 出版タイプ | ||||||||||||||||||||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||||||||||||||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||||||||||||||||||||
| item_10001_relation_34 | ||||||||||||||||||||||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||||||||||||||||||||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||||||||||||||||||||||
| 関連識別子 | http://dx.doi.org/10.1063/1.1335548 | |||||||||||||||||||||||||
| 関連名称 | 10.1063/1.1335548 | |||||||||||||||||||||||||
| 内容記述 | ||||||||||||||||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||||||||||||||||
| 内容記述 | The density of electronic defect states in most forms of amorphous carbon deposited at room temperature is found so far to be very high (1018-1022 spinscm-3). In this letter, we demonstrate that the radio-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposited hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) thin film exhibits the lowest spin density of the order of 1016cm-3, investigated by using electron spin resonance (ESR) spectroscopy, a very promising reproducible result comparable with high-quality a-Si:H. In addition, the optical gap of a-C:H has been tailored between a wide range, 1.8-3.1 eV. The ESR spectra of all the films reveal a single Lorentzian line whose linewidth ΔHpp varies strongly with the optical gap. Also, there is a strong dependence of spin density on the optical gap, and we show that this dependency is a direct result of structural changes due to sp3/sp2 carbon bonding network. | |||||||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||||||
