WEKO3
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Applications of Hydrogen Silsesquioxane in Nanomanufacturing and Nanofabrication
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/2000069
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/2000069e54e7549-25a8-439b-9452-8ff196e3071e
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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本文_fulltext (1.2 MB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper_04(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2024-02-07 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Applications of Hydrogen Silsesquioxane in Nanomanufacturing and Nanofabrication | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| 著者 |
XU, Yuping
× XU, Yuping× Xin, Yunzi× Shirai, Takashi |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 30 | |||||
| 識別子Scheme | NRID | |||||
| 識別子URI | http://rns.nii.ac.jp/nr/1000030571426 | |||||
| 識別子 | 1000030571426 | |||||
| 姓名 | 白井, 孝 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 姓名 | シライ, タカシ | |||||
| 言語 | ja-Kana | |||||
| 書誌情報 |
ja : 名古屋工業大学先進セラミックス研究センター年報 en : Annual report Advanced Ceramics Research Center Nagoya Institute of Technology 巻 11, p. 13-26, 発行日 2023-07-31 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 名古屋工業大学先進セラミックス研究センター | |||||
| 言語 | ja | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | PISSN | |||||
| 収録物識別子 | 21876738 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA12617342 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | Hydrogen silsesquioxane (HSQ) is a versatile inorganic material that has garnered significant attention in the semiconductor industry, such as in micro-/nano-electromechanical systems, photonic devices, and nanoelectronics, owing to its high silicon content, small molecular size, low dielectric constant, excellent line edge roughness, high etching resistance, and local planarization capabilities. This review article discusses the application-related aspects of HSQ in nanomanufacturing for integrated circuits and nanoscale patterning, and the technical applications of HSQ in the fabrication of semiconductor silicon-based nanomaterials. | |||||
| 言語 | en | |||||
| 見出し | ||||||
| 大見出し | 〈解説〉 | |||||
| 言語 | ja | |||||
| 見出し | ||||||
| 大見出し | 〈Review〉 | |||||
| 言語 | en | |||||
