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MOS ダイオードのプラズマ損傷とその軽減対策
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/2135
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/2135bf4d436f-32f0-4352-b6a9-94a958b4fe8c
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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本文_fulltext (572.5 kB)
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| アイテムタイプ | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper_04(1) | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2010-06-25 | |||||||||||
| タイトル | ||||||||||||
| タイトル | MOS ダイオードのプラズマ損傷とその軽減対策 | |||||||||||
| 言語 | ||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||||||||
| その他（別言語等）のタイトル | ||||||||||||
| その他のタイトル | Countermeasures against Plasma Damages in MOS-Diode during Sputtering Process | |||||||||||
| 著者 |
増井, 寛二
× 増井, 寛二
× 近藤, 邦明
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| 著者別名 | ||||||||||||
| 姓名 | Masui, Kanji | |||||||||||
| 書誌情報 |
名古屋工業大学紀要 巻 49, p. 151-157, 発行日 1998-03-31 |
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| 出版者 | ||||||||||||
| 出版者 | 名古屋工業大学 | |||||||||||
| ISSN | ||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||||||||
| 収録物識別子 | 0918595X | |||||||||||
| 書誌レコードID | ||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||||
| 収録物識別子 | AN10389180 | |||||||||||
| 著者版フラグ | ||||||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||||||
| フォーマット | ||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||||||||
