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  1. 研究論文

Growth of InxGa1-xAs quantum dots by metal-organic chemical vapor deposition on Si substrates and in GaAs-based lasers

https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/5020
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/5020
4139536f-c586-4db4-94ee-c44a2e8ad652
名前 / ファイル ライセンス アクション
JAP 本文_fulltext (325.9 kB)
Copyright (2001) American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.The following article appeared in Journal of Applied Physics, 90(11), pp.5463 - 5468; 2001 and may be found at http://link.aip.org/link/?jap/90/5463
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2012-11-06
タイトル
タイトル Growth of InxGa1-xAs quantum dots by metal-organic chemical vapor deposition on Si substrates and in GaAs-based lasers
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 Kazi, Zaman Iqbal

× Kazi, Zaman Iqbal

en Kazi, Zaman Iqbal

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江川, 孝志

× 江川, 孝志

en Egawa, Takashi

ja 江川, 孝志
ISNI

ja-Kana エガワ, タカシ


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Umeno, Masayoshi

× Umeno, Masayoshi

en Umeno, Masayoshi

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Jimbo, Takashi

× Jimbo, Takashi

en Jimbo, Takashi

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著者別名
姓名 Egawa, Takashi
言語 en
姓名 江川, 孝志
言語 ja
姓名 エガワ, タカシ
言語 ja-Kana
著者別名
姓名 梅野, 正義
著者別名
姓名 神保, 孝志
書誌情報 en : JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

巻 90, 号 11, p. 5463-5468, 発行日 2001-12-01
出版者
出版者 American Institute of Physics
言語 en
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0021-8979
item_10001_source_id_32
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00693547
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
item_10001_relation_34
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://dx.doi.org/10.1063/1.1375010
関連名称 10.1063/1.1375010
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 The growth conditions of low-dimensional dot structures of strained InxGa1-xAs on Si substrates using the Stranski-Krastanov growth mode by metal-organic chemical vapor deposition are optimized. Atomic force microscopy measurement has been performed to characterize the dot structures. The dot density and their size are found to be strongly dependent on the substrate temperature, In content, and V/III ratio. The optimized growth condition was further used to fabricate quantum dot-like laser diodes on Si. The characteristics of the laser diode with an InxGa1-xAs quantum dot-like active region are analyzed.
言語 en
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Ver.1 2023-05-15 13:42:50.101211
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