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  1. 先進セラミックス研究センター年報
  2. Vol.7(2018)

エアロゾルデポジション法の紹介とその応用

https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/6798
https://nitech.repo.nii.ac.jp/records/6798
a92e226f-589f-4226-8d46-e4969b29e705
名前 / ファイル ライセンス アクション
arnit2018_39.pdf 本文_fulltext (2.9 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper_04(1)
公開日 2021-09-27
タイトル
タイトル エアロゾルデポジション法の紹介とその応用
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
その他(別言語等)のタイトル
その他のタイトル Introduction of the Aerosol Deposition Method and Its Applications
著者 清原, 正勝

× 清原, 正勝

清原, 正勝

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書誌情報 名古屋工業大学先進セラミックス研究センター年報 = Annual report Advanced Ceramics Research Center Nagoya Institute of Technology

巻 7, p. 39-42, 発行日 2019-07-31
出版者
出版者 名古屋工業大学先進セラミックス研究センター
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 21876738
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA12617342
論文ID(NAID)
40022028535
https://ci.nii.ac.jp/naid/40022028535
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 Aerosol Deposition Method (ADM) is a new technology of ceramics film deposition. Using this method, we can deposit various ceramics thick films (one-several hundred micrometer of thickness) on metal, glass and ceramics substrates. It's normal temperature process and doesn't require any heating expedient. Films have dense, nano-crystalline structure, good adhesion on many substrate and good mechanical properties. For several years, we have been developing this process. In this paper, overview of application to semiconductor manufacturing equipment parts by ADM was reported.
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Aerosol Deposition Method (ADM)
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Yttrium Oxide
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 Semiconductor Manufacture Equipment
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
見出し
大見出し <解説>
言語 ja
見出し
大見出し <Review>
言語 en
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Ver.1 2023-05-15 12:58:14.888466
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